200亿美元市场被一家垄断，中国光刻机产业链正悄然突围

【财经评论员】张心朔
光刻机是半导体制造的核心设备，决定集成电路的精细度与摩尔定律的推进，全球市场超200亿美元，阿斯麦（ASML）在EUV领域占据绝对垄断地位，中低端市场由尼康、佳能主导。光刻机技术核心在于光源波长缩短，从汞灯365nm发展至EUV的13.5nm，并通过浸没式技术突破物理极限。其结构复杂，依赖超10万个零部件，涉及光学系统、光源、双工作台、精密控制等高精尖环节，其中物镜和光源分别占市场份额约20%和10%。中国正加速国产化，上海微电子已实现90nm量产、28nm攻关中，长光润科等企业聚焦EUV反射膜与精密加工，但关键部件仍受制于国际供应链，尤其EUV设备出口受限严重。未来机会在于AI驱动的高端存储与逻辑芯片需求激增，带动先进制程升级；国内突破重点在浸没式DUV系统与EUV光源路线（如LPP、SMBB）的自主突破，产业链上下游企业如福晶科技、波长光电、末代光学等正围绕光学元件、激光晶体、精密镜头等关键环节协同发力，国产替代进程提速。