针对美近日宣布将对华部分半导体产品加征301关税，商务部新闻发言人25日在商务部例行新闻发布会上回应说，中方注意到有关情况，已通过中美经贸磋商机制向美方提出严正交涉。中方不认同美方301调查的所谓结论，坚决反对美对华半导体产品加征301关税。 然而，美方滥施关税，无理打压中国芯片产业，正可反过来证明中国企业在“成熟芯片”领域的强大竞争力。这些芯片被广泛应用于智能手机、汽车、家用电器、电信网络等设备中，中国芯片企业近年来发展速度的迅猛，已经让美国“倍感压力”。 逻辑推演：中国芯片之崛起 2025年可被看做是中国芯片的崛起之年。最近很多国际投行都在预测中国的下一个“DeepSeek时刻”——到底哪个赛道或者哪家企业能够再次震惊世界？ 而从当前的行业发展趋势看，中国的下一个“DeepSeek时刻”很可能来自芯片领域。 这不是我异想天开的，最好的例证是英伟达的黄仁勋近期的一系列公开表述。 比如11月份在接受外媒采访时候，这位当前世界最大芯片企业的当家人直言：“我们（美国）低估了中国加速发展自己科技产业的能力。他们现在每年生产数百万颗人工智能芯片。” 他多次表达出对“对华出售最先进半导体将危及国家安全”的不认同，认为“应该把中国市场看作一个独一无二、至关重要、充满活力、不可替代的市场。” 今年9月底，黄仁勋曾在另一档节目中表示，有人说中国造不出AI芯片，甚至有人说中国没有制造能力，落后美国两三年，这些都很荒谬。相反，“中国擅长的一件事就是制造。还有人说中国落后美国好多年，拜托，中国现在只差我们几纳秒（纳秒是秒的十亿分之一），所以我们必须去竞争。” 逻辑上，黄仁勋想要将英伟达旗下先进的AI芯片卖给中国市场，所以他反对对华出口设置障碍，这个没毛病。但作为一家美国企业，和中国芯片企业的竞争是可见的，他没有必要特意夸大中国芯片企业生产最先进AI芯片的能力。 他说这些话的隐含逻辑其实是：如果英伟达等外国芯片厂商无法参与非常活跃的中国芯片市场竞争，中国芯片企业也一样能凭借国内相关下游AI企业雄厚的财力和蓬勃的发展，最终获得不亚于世界同行的先进产品。 再结合前文所述中国“成熟芯片”领域强竞争力来看，可以说无论是成熟芯片还是更高阶的“高制程芯片”，中国企业的强势发展势头都在凸显，对美国同行的竞争压力都在提升。 另一方面，黄仁勋是真正能看到行业内部资料的人物，他对芯片行业商业情报和获取能力全球没有几个企业家能够匹敌吧？在当前获取我国最高精尖半导体技术资讯比较有难度的情况下，其实用他的论述作为一种逻辑推演和反证是比较实际的。 光刻机的好消息 在芯片制造领域尤其重要的设备就是光刻机。当前，荷兰半导体巨头阿斯麦（ASML）是当前世界光刻机领域绝对的霸主，掌控了最先进的EUV技术。中国光刻机企业则一直在“奋起直追”。 最新的一则新闻显示，据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称“上海微电子”）中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额10999.985万元。 关键词就是这个“步进扫描式光刻机”。研究资料显示，步进扫描光刻机在曝光视场尺寸及曝光均匀性上更有优势，在0.25μm以下的制造中减少了步进重复光刻机的应用。步进扫描采用动态扫描方式，掩膜版相对晶圆同步完成扫描运动，完成当前曝光后，至下一步扫描场位置，继续进行重复曝光，直到整个晶圆曝光完毕。从0.18μm节点开始，硅基底CMOS工艺大量采用步进扫描光刻。当前最先进的制程7nm以下工艺节点使用的极紫外光刻机（EUV）采用的也是步进扫描方式。 消息不长，但背后令人振奋的意涵浓郁。要知道这台机器的研发和生产背景是美国对中国光刻机技术、零部件的长期“封锁”，绝不仅是一台光刻机的问题，而是整个光刻机产业链的全面“自主可控”。 据中泰证券研究所2022年的一份研报，当前主流光刻机零部件供应商遍布全球，核心零部件来自德国和美国：代表光刻机最高端技术的EUV光刻机里面有10万多个零部件，全球超过5000家供应商。整个光刻机中，荷兰腔体和英国真空占32%，美国光源占27%，德国光学系统占14%，日本的材料占27%。 不仅是上海微电子，像华为、新凯来这样的企业也正在芯片领域积极自主研发，不断出现最新的成果。 过去几年，位于深圳的新凯来一举发布5款工艺设备新品，加上旗下两家公司——万里眼推出新一代超高速实时示波器、启云方发布两款国产EDA设计软件，共同构成了新凯来通向自主可控芯片制造体系的路线图。 万里眼CEO刘桑此前接受媒体采访时表示，最新推出的示波器将国产示波器性能提升500%，能够支持3-5nm制程芯片的测试，技术水平可达全球第二，也补齐了中国在高端测试测量设备领域的短板。 要知道新凯来的成立时间才几年，阿斯麦于2001年就制造出首个EUV光刻技术原型，随后该公司耗费近20年时间和数十亿欧元的研发资金，才在2019年推出首款可以生产商用芯片的EUV。 EUV无疑是当前光刻机“技术战、研发战”的主角。这种光刻机技术利用极紫外光束在硅晶圆上蚀刻出比头发丝细数千倍的电路，越小的电路意味着芯片的性能越强悍，中国企业后续在EUV领域的发力无疑将对中国芯片能否产生“DeepSeek时刻”起到决定性的作用。 奋力一跳 过去一年，中国企业尽管已经在国产智能手机芯片、储存芯片、车规级芯片、GPU、AI芯片等领域取得了长足的进步，发布了许多和国际主流技术标准并驾齐驱的商业化产品，但在高精尖领域的客观差距依然存在，中国芯片企业的“追赶之路”依然不能说到头了。 在全球地缘政治动荡复杂背景下，中国芯片产业要应对严峻的“脱钩断链”挑战，而坚持加快构建“以我为主”的自主产业生态则依然是中国芯片企业必须坚持的“不二法则”。 产业端的“组合拳”打法是中国芯片企业得以突围的另一个路径。在高精尖领域要抱团取暖，而不是靠单打独斗。华为在这方面的“合纵策略”就在近几年得到显著的成果。 比如，华为与中芯国际和思瑞浦等合作伙伴正在开展研发工作，探索通过延长深紫外光刻的使用来代替EUV系统的方法。壁仞科技去年宣布与腾讯支持的公司无问芯穹合作，提升其GPU的训练性能。 同时，芯片研发、设计、制造等环节的复杂程度“难以言喻”，涉及到的零部件和研发人力资源“不可穷举”，要实现中国芯片产业的长期主义发展，单靠“闭门造车”也是不够的。 在坚持“以我为主”的同时，如何通过积极出海，加强全球产业链融合，利用好国际顶尖人力资源，更加积极主动融入到全球尖端芯片产业链中去，也是中国芯片企业的一道”必答题“。 尾声 12月24日，有市场消息称，英伟达已经告知中国客户，计划2026年2月中旬交付H200芯片。预计发货总量为5000—10000套模组，约4万至8万颗H200芯片。 H200芯片并不是英伟达当前最先进的GPU产品，但其算力值可能是国内市场领先的。当前国内芯片企业已经完成了在“成熟芯片”赛道的竞争优势，但在最高性能的AI芯片领域还有很大的成长空间。 这无疑再次提醒中国芯片企业“奋力一跳”的重要性，期待2026年中国芯片产业真正出现“DeepSeek时刻”，再次震惊世界。 ​